深圳華盛光刻系統(tǒng)有限公司創(chuàng)始團隊是半導(dǎo)體裝備的頂尖成熟團隊，負(fù)責(zé)項目的整體策劃、技術(shù)路線把關(guān)和資源整合；將發(fā)揮全球半導(dǎo)體領(lǐng)域的行業(yè)號召力， 為本項目引進來自日本、韓國、中國大陸和中國臺灣等海內(nèi)外的資深工程師團隊；項目核心團隊成員均來自國際光罩行業(yè)的頭部公司， 行業(yè)從業(yè)經(jīng)驗平均超過20年，掌握中高階光罩生產(chǎn)開發(fā)技術(shù)、光罩制程技術(shù)和資料處理等技術(shù)。計劃自主生產(chǎn)光掩膜版：半導(dǎo)體芯片先進制程工藝不斷發(fā)展 ，華盛先進光刻制造基地，一期技術(shù)節(jié)點目標(biāo)， 將掌握成熟的700nm、500nm、180nm、130nm 及以上光掩膜制造工藝 。